ZML 系列 DMD 无掩膜光刻机基于数字微镜直写（DMD）技术，通过空间光调制实现非接触式图形化曝光，无需制作物理掩模版即可灵活生成任意微纳结构。该设备集成智能自动对焦系统，适用于微流控芯片、MEMS 传感器、功能薄膜及二维材料器件的研发与原型验证，支持实验室环境下的高精度快速成型。
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